42956855824_7c7a9be8cf_o.jpg Entwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderEntwicklung Staub-SchutzschildEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderEntwicklung Staub-SchutzschildEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderEntwicklung Staub-SchutzschildEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderEntwicklung Staub-SchutzschildEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderEntwicklung Staub-SchutzschildEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderEntwicklung Staub-SchutzschildEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderEntwicklung Staub-Schutzschild
Bei der Erforschung von Mond und Mars gibt es ein Problem:
Feinster Staub setzt sich auf die Ausrüstung, Solarzellen, Sensoren, Raumanzüge und Helm-Visiere und kann diese unbrauchbar machen.
Im Elektrostatik- und Oberflächenphysik-Labor des Kennedy Space Centers
wird deshalb ein elektrostatischer Staub-Schutzschild entwickelt.
Tests am 19. Juli 2018 konnten den Staub erfolgreich entfernen.
Im Frühjahr 2019 soll das Gerät unter Weltraumbedingungen
auf der ISS getestet werden.
Information
Autor
-eumel-
Veröffentlicht am
Dienstag 31 Oktober 2023
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159
Exif-Metadaten
Canon Canon EOS 5D Mark IV
f/35/10
51/1
1/250
1250
0/1
16
Make
Canon
Model
Canon EOS 5D Mark IV
ExifVersion
0230
Software
Adobe Photoshop CC 2015 (Windows)
DateTimeOriginal
2018:07:19 10:20:53
FNumber
35/10
ExposureBiasValue
0/1
ExposureTime
1/250
Flash
16
ISOSpeedRatings
1250
FocalLength
51/1
WhiteBalance
0
ExposureMode
1
MeteringMode
3
ExposureProgram
1
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