42956865044_0e6ddae7bd_o.jpg Entwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderISS -Notfall TrainingEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderISS -Notfall TrainingEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderISS -Notfall TrainingEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderISS -Notfall TrainingEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderISS -Notfall TrainingEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderISS -Notfall TrainingEntwicklung Staub-SchutzschildVorschaubilderISS -Notfall Training
Bei der Erforschung von Mond und Mars gibt es ein Problem:
Feinster Staub setzt sich auf die Ausrüstung, Solarzellen, Sensoren, Raumanzüge und Helm-Visiere und kann diese unbrauchbar machen.
Im Elektrostatik- und Oberflächenphysik-Labor des Kennedy Space Centers
wird deshalb ein elektrostatischer Staub-Schutzschild entwickelt.
Tests am 19. Juli 2018 konnten den Staub erfolgreich entfernen.
Im Frühjahr 2019 soll das Gerät unter Weltraumbedingungen
auf der ISS getestet werden.
Information
Autor
-eumel-
Veröffentlicht am
Dienstag 31 Oktober 2023
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181
Exif-Metadaten
Canon Canon EOS 5D Mark IV
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Canon EOS 5D Mark IV
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